半導體是電子產(chǎn)品的核心，信息產(chǎn)業(yè)的基石。半導體行業(yè)是國民經(jīng)濟支柱性行業(yè)之一，其發(fā)展程度是衡量一個國家科技發(fā)展水平的核心指標。近年來，為進一步鼓勵國內半導體的整體發(fā)展，打破外國壟斷，增強科技競爭力，政府投入資金在國內建造很多集成電路制造廠。

　　由于半導體行業(yè)的特殊性，芯片的制造、加工工藝非常復雜，在芯片生產(chǎn)工藝中需要使用特殊的高純氣體且氣體毒性很強，這些氣體參與芯片生產(chǎn)后，殘余的少量氣體經(jīng)過凈化裝置處理后，通過固定污染源的方式排放至大氣環(huán)境中，如何監(jiān)測特殊污染物排放量并采取適當?shù)目刂拼胧┦前雽w行業(yè)面臨的難點，現(xiàn)有的監(jiān)測設備及分析手段無法用于半導體行業(yè)特殊污染物的檢測工作。

　　樂氏科技自主研發(fā)生產(chǎn)的9100FIR和進口產(chǎn)品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀，能夠很好地滿足半導體行業(yè)排污監(jiān)測需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術，一臺分析儀可以檢測在紅外光譜范圍內具有紅外吸收的全部氣體組分，目前儀器開放的氣體標準定量紅外譜庫*涵蓋半導體行業(yè)特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)為關注的三種氣體污染物，關于這三種氣體的介紹如下：

　　NF3是一種強氧化劑，在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在芯片制造有運用；

　　SF6是一種的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子、芯片制造技術領域；

　　CF4是微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻；

　　NF3、SF6、CF4是半導體行業(yè)使用多的三種氣體組分，由于用量很大，且為高純氣，除污染物的排放會涉及上述氣體組分，氣體的泄漏也會對人體和環(huán)境產(chǎn)生巨大影響和毒害。這些氣體組分會強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，濃度過高也會產(chǎn)生窒息的危險。因此在半導體行業(yè)針對上述氣體的應急監(jiān)測及固定污染源排放監(jiān)測顯得尤為重要。

　　目前樂氏科技的AtmosFIR已在合肥晶合集成電路有限公司進行應用，除了常規(guī)的無機和有機氣體組分以外，樂氏科技額外提供了NF3、SF6、CF4三種氣體的定量模型，可以實現(xiàn)對NF3、SF6、CF4的測量。